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J-GLOBAL ID:200902158097907484   整理番号:97A0279745

Si/Al比の低いアロフェンのケイ素富化に伴う表面酸性変化と分子軌道法計算によるメカニズムの検討

Research on the surface acidity change following the silicon enrichment of allophane with a low Si/Al ratio and on the mechanism by a molecular orbital calculation.
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巻: 40th  ページ: 22-23  発行年: 1996年09月 
JST資料番号: L1402A  ISSN: 2433-0566  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)

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