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J-GLOBAL ID：200902165041566648   整理番号：98A0139226

電子ポンピングによる偏極3Heイオン源のRbセル設計

Design of Rb Cell for Polarized 3He Ion Source Based on Electron Pumping.
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著者 (6件)：
YONEHARA K

YONEHARA K について

(Konan Univ., Kobe, JPN)

Konan Univ., Kobe, JPN について

, 
ARIMOTO Y

ARIMOTO Y について

(Osaka Univ., Osaka, JPN)

Osaka Univ., Osaka, JPN について

, 
TAKEUCHI T

TAKEUCHI T について

(Konan Univ., Kobe, JPN)

Konan Univ., Kobe, JPN について

, 
TANAKA M

TANAKA M について

(Kobe Tokiwa Jr. Coll., Kobe, JPN)

Kobe Tokiwa Jr. Coll., Kobe, JPN について

, 
FUJIWARA M

FUJIWARA M について

(Osaka Univ., Osaka, JPN)

Osaka Univ., Osaka, JPN について

, 
YAMAGATA T

YAMAGATA T について

(Konan Univ., Kobe, JPN)

Konan Univ., Kobe, JPN について


資料名：
Proceedings of the Symposium on Accelerator Science and Technology  (Proceedings of the Symposium on Accelerator Science and Technology)

Proceedings of the Symposium on Accelerator Science and Technology について


巻： 11th  ページ： 174-175  発行年： 1997年 
JST資料番号： F0512B  ISSN： 0914-2789  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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偏極3Heビームは核物理研究にとって有...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*イオン源

イオン源 について

,...
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シソーラス用語/準シソーラス用語
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電子ポンピング

電子ポンピング について


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分類 (1件)：
分類
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加速器一般及び理論 
(BE02010M)

加速器一般及び理論 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
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ポンピング

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偏極

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イオン源

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Rb

Rb について

, 
セル設計

セル設計 について


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