文献
J-GLOBAL ID：200902165108617307   整理番号：98A0097434

VPD-DSE-studies of metal impurities on silicon A comparison of TXRF and radiochemical analysis.

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0097434&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=K19970661") }}
著者 (6件)：
METZ S

METZ S について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について

, 
KILIAN G

KILIAN G について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について

, 
MAINKA G

MAINKA G について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について

, 
ANGELKORT C

ANGELKORT C について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について

, 
FESTER A

FESTER A について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について

, 
KOLBESEN B O

KOLBESEN B O について

(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU)

Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt/Main, DEU について


資料名：
Crystalline Defects and Contamination: Their Impact and Control in Device Manufacturing 2  (Crystalline Defects and Contamination: Their Impact and Control in Device Manufacturing 2)

Crystalline Defects and Contamination: Their Impact and Control in Device Manufacturing 2 について


ページ： 458-467  発行年： 1997年 
JST資料番号： K19970661  ISBN： 1-56677-175-7  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (1件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
TXRF

TXRF について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM