文献
J-GLOBAL ID:200902165191978774
整理番号:98A0000794
C4F8プラズマ中の電子付着速度
Electron attachment rate in C4F8 plasma.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0000794&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}