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J-GLOBAL ID：200902165973051637   整理番号：99A0974508

真空中S終端処理GaAs(001)表面の昇温脱離過程の解析

著者 (7件)： 塚本史郎 (金材技研) ,  杉山宗弘 (NTT 基礎研) ,  下田正彦 (金材技研) ,  前山智 (NTT 基礎研) ,  渡辺義夫 (NTT 基礎研) ,  大野隆央 (金材技研) ,  小口信行 (金材技研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 60th  号： 2  ページ： 537  発行年： 1999年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 終端 ,  GaAs ,  昇温脱離 ,  過程 ,  解析