研究者
J-GLOBAL ID:200901096545707948   更新日: 2024年02月14日

下田 正彦

シモダ マサヒコ | Shimoda Masahiko
所属機関・部署:
職名: 主席研究員
ホームページURL (1件): http://www.nims.go.jp/photocatalyst/fundamental_process/shimoda/QC_Surface_e.html
研究分野 (4件): 複合材料、界面 ,  無機材料、物性 ,  金属材料物性 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (10件): 薄膜 ,  触媒 ,  準結晶 ,  表面 ,  光電子回折 ,  STM ,  XPS ,  Quasicrystals ,  Surface ,  Photoelectron Diffraction
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • 2008 - 2009 硫黄を接合子とする固定型パラジウム触媒の開発
  • 準結晶の表面構造及び準結晶表面の薄膜
  • Immobilization of Organopalladium Catalyst
  • Surface Studies on Quasicrystlas
MISC (91件):
特許 (8件):
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学歴 (3件):
  • - 1984 京都大学
  • 京都大学
  • 京都大学
学位 (1件):
  • 理学博士 (京都大学)
経歴 (4件):
  • 2001 - - 物質・材料研究機構
  • 2001 - - National Institute for Materials Science
  • 1984 - - 金属材料技術研究所
  • 1984 - - National Research Institute for Metals
所属学会 (6件):
日本物理学会 ,  日本表面科学会 ,  日本金属学会 ,  The Surface Science Society of Japan ,  The Japan Institute of Metals ,  The Physical Society of Japan
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