文献

J-GLOBAL ID：200902178158194940   整理番号：97A0847464

負イオン利用技術の現状-負イオン発見100年を記念して 低エネルギー正負イオンビームによるCN薄膜の形成

Current Status of Negative Ion Application Techniques-for the 100th anniversary of discovery of negative ions. Carbon Nitride Film Formation with Low Energy Positive and Negative Ion Beam Deposition.

著者 (6件)： 坪内信輝 (大阪工業技術研) ,  堀野裕治 (大阪工業技術研) ,  ENDERS B (大阪工業技術研) ,  茶谷原昭義 (大阪工業技術研) ,  木野村淳 (大阪工業技術研) ,  藤井兼栄 (大阪工業技術研)
資料名： Ionics  (Ionics)
巻： 23  号： 7 別冊  ページ： 113-117  発行年： 1997年07月 
JST資料番号： F0043B  ISSN： 0388-659X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我々のグループにより開発された低エネルギー正負イオン物質合成...

シソーラス用語： 負イオンビーム ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0847464&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0043B") }}

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 負イオン ,  現状 ,  発見 ,  低エネルギー ,  イオンビーム ,  Cn ,  薄膜