研究者
J-GLOBAL ID：200901093192805445   更新日: 2022年06月29日

茶谷原 昭義

チャヤハラ アキヨシ | Chayahara Akiyoshi
所属機関・部署：
独立行政法人産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター

独立行政法人産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター について


職名： 招聘研究員
ホームページURL (1件)： http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=A72242350
研究分野 (1件)： 材料加工、組織制御
研究キーワード (7件)： ダイヤモンド プラズマプロセス イオンビーム加工 イオン注入 薄膜形成 ,  Plasma ,  Ion implantation ,  Ion Beam ,  Thin Film ,  Surface Improvement ,  diamond
競争的資金等の研究課題 (3件)：
  • イオン照射効果、イオン注入・成膜
  • ダイヤモンド単結晶成長
  • diamond growth
MISC (47件)：
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特許 (3件)：
  • 薄膜形成装置および薄膜形成方法
  • 炭化珪素埋め込み層を有するシリコン基盤の製造方法
  • Method of forming a highly pure thin film and apparatus there for
学歴 (4件)：
  • 広島大学
  • 広島大学大学院工学研究科
  • 広島大学
  • Hiroshima University, Graduate School of Engineering
学位 (1件)：
  • 工学博士
経歴 (3件)：
  • 1988 - 大阪工業技術試験所(現研究所)入所
  • 1988 - Government Industrial Research Institute,
  • (Present : Osaka National Research Institute, AIST)
所属学会 (4件)：
表面技術協会 ,  応用物理学会 ,  The Surface Finishing Society of Japan ,  The Japan Society of Applied Physics
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