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J-GLOBAL ID：200902212490864007   整理番号：06A0448527

電気化学機械析出の平坦化効率およびプロセスパラメータに対するの依存性

Planarization Efficiency of Electrochemical Mechanical Deposition and Its Dependence on Process Parameters

著者 (4件)： BASOL Buelent M. (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  ERDEMLI Serkan (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  UZOH Cyprian E. (ASM NuTool, Inc., California, USA) ,  WANG Tony (ASM NuTool, Inc., California, USA)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 153  号： 3  ページ： C176-C181  発行年： 2006年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超LSIの銅相互配線は,抑制剤(ポリエチレンオキシドなど),...

シソーラス用語： *超LSI ,...
準シソーラス用語： ECMD【電着】 ,...

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分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電気化学 ,  析出 ,  平坦化 ,  プロセス ,  パラメータ ,  依存性