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J-GLOBAL ID：200902212509410126   整理番号：08A0501654

Pt/BaO/Al₂O₃系希薄NO_xトラップ触媒のH₂による再生機構

Regeneration mechanism of Pt/BaO/Al₂O₃ lean NO _x trap catalyst with H₂

著者 (6件)： MULLA S.s. (School of Chemical Engineering, Purdue Univ., Forney Hall of Chemical Engineering, 480 Stadium Mall Drive, West ...) ,  CHAUGULE S.s. (School of Chemical Engineering, Purdue Univ., Forney Hall of Chemical Engineering, 480 Stadium Mall Drive, West ...) ,  YEZERETS A. (Cummins Inc., 1900 McKinley Avenue, Columbus, IN 47201, USA) ,  CURRIER N.w. (Cummins Inc., 1900 McKinley Avenue, Columbus, IN 47201, USA) ,  DELGASS W.n. (School of Chemical Engineering, Purdue Univ., Forney Hall of Chemical Engineering, 480 Stadium Mall Drive, West ...) ,  RIBEIRO F.h. (School of Chemical Engineering, Purdue Univ., Forney Hall of Chemical Engineering, 480 Stadium Mall Drive, West ...)
資料名： Catalysis Today  (Catalysis Today)
巻： 136  号： 1-2  ページ： 136-145  発行年： 2008年07月15日 
JST資料番号： T0363A  ISSN： 0920-5861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Pt/BaO/Al₂O₃系触媒上のNO_x貯蔵種のモデル還元剤H₂による還元機構における再生を研究した。再生過程は,トラッピングサイトの完全再生した触媒層内を通過する還元剤の局在反応前端を含むことを示した。再生ガスとしてNH₃を用いた場合,再生過程はH₂と同様であり,NH₃はトラップ触媒再生に有効であった。その過程は,水素供給源(H₂ないしNH₃)と関係なしに,水素原子供給のみで律速され,温度変化ないしCO₂,H₂の存在に影響されない。Pt自体がNO_x/H₂系気流中のNO_xからN₂への還元に高選択性でなくても,Ba含有トラップ触媒上ではその高い選択性は維持される。その場合,NH₃を主とする不要な副生物はN₂に最適転化されるまでさらに反応を続ける。還元剤H₂によるトラップ触媒の再生には,NO_x貯蔵種からのNH₃生成が含まれ,NH₃は水素原子のキャリヤとして作用する。NH₃はNO_x貯蔵種(触媒上の酸素源)によりN₂まで高い選択性で酸化される。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 排ガス処理 ,  *酸化窒素 ,  *接触還元 ,  水素 ,  活性部位 ,  ガス回収 ,  *触媒再生 ,  反応機構 ,  *白金触媒 ,  *酸化バリウム ,  担持触媒 ,  アルミナ ,  還元剤 ,  固定層反応器 ,  アンモニア ,  移動層 ,  二酸化炭素 ,  窒素 ,  接触酸化 ,  律速 ,  *物質移動 ,  Peclet数 ,  キャリアガス ,  転化率 ,  濃度依存性 ,  一酸化窒素 ,  反応中間体
準シソーラス用語： Sherwood数 ,  *吸蔵 ,  選択率

分類 (3件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  触媒操作  (XE01050T)

タイトルに関連する用語 (7件)： Pt ,  BaO ,  Al2O3 ,  NOX ,  トラップ ,  触媒 ,  H2