機能性材料における表面処理技術の現状と展望  表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現

土佐正弘; 笠原章; 後藤真宏

文献

J-GLOBAL ID：200902220095739603 整理番号：05A0681515

機能性材料における表面処理技術の現状と展望表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現

“Recent situation and foresight of surface treatment on functional materials” Lower frictional surface prepared by control of surface segregation for vacuum system

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=05A0681515&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0681515&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0157A") }}

著者 (3件)： , ,
資料名：
巻： 75 号： 8 ページ： 751-754 発行年： 2005年08月01日
JST資料番号： F0157A ISSN： 0368-6337 CODEN： KNZKA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

真空中での低摩擦表面を実現する表面偏析現象を制御する手法につ...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0681515&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0157A") }}

固体の機械的性質一般

, , , , , ,

前のページに戻る

機能性材料における表面処理技術の現状と展望 表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現

機能性材料における表面処理技術の現状と展望表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現