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J-GLOBAL ID：200902235338131525   整理番号：09A0720346

Micro scanning PIXEにおける照射量測定システムの開発 その1

著者 (9件)： 石川剛弘 (放医研 基盤技セ) ,  磯浩之 (ネオス・テック) ,  及川将一 (放医研 基盤技セ) ,  小西輝昭 (放医研 基盤技セ) ,  北村尚 (放医研 基盤技セ) ,  樋口有一 (ネオス・テック) ,  酢屋徳啓 (放医研 基盤技セ) ,  濱野毅 (放医研 基盤技セ) ,  今関等 (放医研 基盤技セ)
資料名： NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences)  (NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences))
号： 223  ページ： 13-15  発行年： 2009年06月 
JST資料番号： Z0881A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *PIXE分析 ,  元素分析 ,  イオン照射 ,  照射線量 ,  線量測定 ,  ビームモニタリング ,  計測

分類 (2件)： その他の物理分析  (CC03014E) ,  線量計測・計測器  (AD08050Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： PIXE ,  照射量 ,  測定システム ,  開発