特許

J-GLOBAL ID：200903000256480463

多孔質基盤体とその製造方法並びに多孔質基盤体の使用方法

発明者： 陳 国平 ,  立石 哲也 ,  田中 順三
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006318651
公開番号（公開出願番号）：WO2007-034843
出願日： 2006年09月20日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：

本発明の多孔質基盤体は、細胞の播種用孔を有し、細胞の播種用孔を有する多孔質な主体の外周面に前記細胞よりも小さい孔からなる多孔質膜を配設してなることを特徴とする。これにより、細胞の漏れを抑制し、細胞を高効率に播種でき、さらに接着しにくい細胞でも接着することのできる多孔質基盤体が提供される。

請求項（抜粋）：

細胞の播種用孔を有する多孔質基盤体であって、細胞の播種用孔を有する多孔質な主体の外周面に前記細胞よりも小さい孔からなる多孔質膜を配設してなることを特徴とする多孔質基盤体。

IPC (1件)：

A61F 2/28

FI (1件)：

A61F2/28

Fターム (27件)：

4C081AA12 ,  4C081AB02 ,  4C081AB11 ,  4C081AB13 ,  4C081AB18 ,  4C081AB19 ,  4C081BA16 ,  4C081CD121 ,  4C081CD34 ,  4C081DA01 ,  4C081DB03 ,  4C097AA01 ,  4C097BB01 ,  4C097BB04 ,  4C097CC01 ,  4C097CC02 ,  4C097DD02 ,  4C097DD05 ,  4C097DD15 ,  4C097EE02 ,  4C097EE08 ,  4C097EE11 ,  4C097EE16 ,  4C097EE19 ,  4C097FF01 ,  4C097FF03 ,  4C097FF05