特許

J-GLOBAL ID：200903008830267880

ホールパターン形状評価装置

発明者： 池上 貴久 ,  飯泉 孝
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-290530
公開番号（公開出願番号）：特開2002-176085
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。【解決手段】極座標展開中心へ、ホールパターンの中心を移動させる手段と、ホールパターン像の一点を中心として極座標展開し、ホールパターンの半径方向の座標軸と角度座標軸をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段とを備える。

請求項（抜粋）：

荷電粒子銃から放出された荷電粒子線を試料上で走査することによって、試料から放出される検出信号に基づいて、ホールパターンのエッジ間の距離を測長するホールパターン形状評価装置において、前記ホールパターンの一点を中心として極座標展開を行う手段と、前記極座標展開中心と前記ホールパターンの中心を合わせる手段と、前記検出信号に基づいて前記ホールパターンの一点を中心とした半径方向の座標と角度座標をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段を備えたことを特徴とするホールパターン形状評価装置。

IPC (4件)：

H01L 21/66 ,  G01B 15/00 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/66 J ,  G01B 15/00 B ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (30件)：

2F067AA21 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067HH13 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN03 ,  2F067RR12 ,  2F067RR13 ,  2F067RR35 ,  2F067RR36 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB12 ,  4M106DB14 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ24 ,  5C033FF10 ,  5C033JJ07 ,  5C033MM07 ,  5C033UU05 ,  5C033UU06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ホールパターン形状評価装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-173952   出願人：株式会社日立製作所
• 微細パターン測定方法、微細パターン測定装置及び微細パターン測定プログラムを記録した記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-268711   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (1件)

• ホールパターン形状評価装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-173952   出願人：株式会社日立製作所