特許
J-GLOBAL ID:200903059567014126
微細パターン測定方法、微細パターン測定装置及び微細パターン測定プログラムを記録した記録媒体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-268711
公開番号(公開出願番号):特開2001-091231
出願日: 1999年09月22日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】パターンのエッジを正確に検出することにより高精度な微細パターンの測定を可能とする。【解決手段】微細パターンが形成されたサンプルのパターン画像を画像取得部331で取得し、図形作成部332において、得られたパターン画像に対してパターン形状を反映する図形を作成し、濃度分布データ取得部333において、この図形の輪郭の接線に対して垂直な直線上の濃度分布データを取得し、エッジ検出部334において、濃度分布データからパターンエッジ座標を検出し、パターン形状測定部335において、パターンエッジ座標を基にパターンの形状を測定する。
請求項(抜粋):
微細パターンが形成されたサンプルのパターン画像を取得する工程と、前記パターン画像に対してパターン形状を反映する図形を作成する工程と、この図形の輪郭の接線に対して垂直な直線上の濃度分布データを取得する工程と、前記濃度分布データからパターンエッジ座標を検出する工程と、前記パターンエッジ座標を基に前記パターンの形状を測定する工程とを有することを特徴とする微細パターン測定方法。
IPC (3件):
G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
FI (3件):
H01L 21/66 J
, G01B 11/24 F
, G06F 15/62 405 Z
Fターム (41件):
2F065AA03
, 2F065AA12
, 2F065AA56
, 2F065AA58
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065DD03
, 2F065DD19
, 2F065FF04
, 2F065FF61
, 2F065GG01
, 2F065HH04
, 2F065JJ01
, 2F065JJ15
, 2F065MM16
, 2F065PP12
, 2F065PP24
, 2F065QQ03
, 2F065QQ05
, 2F065QQ06
, 2F065QQ13
, 2F065QQ16
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065QQ32
, 2F065QQ34
, 2F065SS13
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB21
, 5B057AA03
, 5B057BA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CC01
, 5B057DA07
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC16
引用特許: