特許
J-GLOBAL ID:200903059567014126

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置及び微細パターン測定プログラムを記録した記録媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-268711
公開番号(公開出願番号):特開2001-091231
出願日: 1999年09月22日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】パターンのエッジを正確に検出することにより高精度な微細パターンの測定を可能とする。【解決手段】微細パターンが形成されたサンプルのパターン画像を画像取得部331で取得し、図形作成部332において、得られたパターン画像に対してパターン形状を反映する図形を作成し、濃度分布データ取得部333において、この図形の輪郭の接線に対して垂直な直線上の濃度分布データを取得し、エッジ検出部334において、濃度分布データからパターンエッジ座標を検出し、パターン形状測定部335において、パターンエッジ座標を基にパターンの形状を測定する。
請求項(抜粋):
微細パターンが形成されたサンプルのパターン画像を取得する工程と、前記パターン画像に対してパターン形状を反映する図形を作成する工程と、この図形の輪郭の接線に対して垂直な直線上の濃度分布データを取得する工程と、前記濃度分布データからパターンエッジ座標を検出する工程と、前記パターンエッジ座標を基に前記パターンの形状を測定する工程とを有することを特徴とする微細パターン測定方法。
IPC (3件):
G01B 11/24 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66
FI (3件):
H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F ,  G06F 15/62 405 Z
Fターム (41件):
2F065AA03 ,  2F065AA12 ,  2F065AA56 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD19 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065GG01 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ15 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ34 ,  2F065SS13 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CC01 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC16
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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