紫外線用フォトディテクタ、およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：赤澤日出夫 , ▲橋▼場満枝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-301234
公開番号（公開出願番号）：特開2009-130012
出願日： 2007年11月21日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：

【課題】耐久性に優れ、薄膜成長が不要であり、低コストな紫外線用フォトディテクタを提供する。【解決手段】酸化ガリウム単結晶基板と、酸化ガリウム単結晶基板の表面に形成され、受光面を有するとともに前記酸化ガリウム単結晶基板とショットキー接触をなす第1の電極と、酸化ガリウム単結晶基板の裏面に形成され、前記酸化ガリウム単結晶基板とオーミック接触をなし、受光面で受ける紫外線に応じて前記第1の電極との間で前記酸化ガリウム単結晶基板を介して電流が流れる第2の電極とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

酸化ガリウム単結晶基板と、前記酸化ガリウム単結晶基板の表面に形成され、受光面を有するとともに前記酸化ガリウム単結晶基板とショットキー接触をなす第1の電極と、前記酸化ガリウム単結晶基板の裏面に形成され、前記酸化ガリウム単結晶基板とオーミック接触をなし、前記受光面で受ける紫外線に応じて前記第1の電極との間で前記酸化ガリウム単結晶基板を介して電流が流れる第2の電極とを備える紫外線用フォトディテクタ。

IPC (2件)：

H01L 31/108 , G01J 1/02

FI (2件)：

H01L31/10 C , G01J1/02 G

Fターム (12件)：

2G065AA04 , 2G065AB05 , 2G065BA02 , 2G065DA20 , 5F049MA05 , 5F049MB01 , 5F049NA18 , 5F049NA20 , 5F049NB10 , 5F049QA04 , 5F049SE05 , 5F049WA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-115391
光導電素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-348261 出願人：三菱電線工業株式会社, 株式会社ニコン
特開昭62-115391

引用文献：

審査官引用 (2件)

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