特許

J-GLOBAL ID：200903062370101176

X線吸収微細構造分析方法およびその分析装置

発明者： 田中 裕久 ,  上西 真里 ,  谷口 昌司 ,  水木 純一郎 ,  西畑 保雄 ,  加藤 和男
出願人/特許権者： ダイハツ工業株式会社 ,  独立行政法人 日本原子力研究開発機構 ,  財団法人高輝度光科学研究センター
代理人 (1件)： 岡本 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-084523
公開番号（公開出願番号）：特開2006-266829
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】 X線吸収スペクトルのノイズを小さくでき、データ解析を容易とし、分析精度を向上できる、X線吸収微細構造分析方法およびその分析装置を提供すること。【解決課題】 ポリクロメータでX線を分光して、分光したX線をサンプル13に照射することにより、サンプル13のX線吸収微細構造を分析するX線吸収微細構造分析方法において、測定時間内に、超音波発生装置7によりサンプル13に振動を与える。これによって、サンプル13の厚さや密度が不均一となりやすい場合であっても、測定時間内に、サンプル13に振動を与えることによって、得られるサンプル13のX線吸収スペクトルのノイズを平均化することができる。そのため、X線吸収スペクトルのノイズを小さくでき、その結果、データ解析を容易とし、X線吸収微細構造分析方法の精度を向上できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ポリクロメータでX線を分光して、分光した前記X線をサンプルに照射することにより、前記サンプルのX線吸収微細構造を分析するX線吸収微細構造分析方法において、 測定時間内に、前記サンプルに振動を与えることを特徴とする、X線吸収微細構造分析方法。

IPC (1件)：

G01N 23/04

FI (1件)：

G01N23/04

Fターム (9件)：

2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001EA09 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA14 ,  2G001KA05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 全反射X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000012   出願人：株式会社日立製作所
• エネルギ角度分散型全反射X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-188775   出願人：株式会社日立製作所
• 薄膜プロセスX線構造解析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-313116   出願人：株式会社日立製作所