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J-GLOBAL ID：200902114090816257   整理番号：96A1011808

液体源CVD法によるRu電極上に作製した(Ba,Sr)TiO₃膜

(Ba, Sr)TiO₃ Films Prepared by Liquid Source Chemical Vapor Deposition on Ru Electrodes.

著者 (4件)： KAWAHARA T (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  YAMAMUKA M (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  YUUKI A (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  ONO K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35  号： 9B  ページ： 4880-4885  発行年： 1996年09月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si基板上にPtよりエッチングの容易なRuO<sub>2<...

シソーラス用語： *誘電体薄膜 ,...

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分類 (2件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (16件)：

• NISHIOKA, Y. Dig. Int. Electron Devices Meeting. 1995, 903
• YUUKI, A. Dig. Int. Electron Devices Meeting. 1995, 115
• YAMAMICHI, S. Dig. Int. Electron Devices Meeting. 1995, 119
• LEE, K. P. Dig. Int. Electron Devices Meeting. 1995, 907
• BUSKIRK, P. V. Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35, 2520

タイトルに関連する用語 (6件)： 液体源 ,  CVD法 ,  Ru ,  作製 ,  Ba ,  Sr