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J-GLOBAL ID：200902178701774359   整理番号：96A0543115

液体源化学蒸着による複金属酸化物薄膜の有機金属化学蒸着

Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Complex Metal Oxide Thin Films by Liquid Source Chemical Vapor Deposition.

著者 (4件)： VAN BUSKIRK P C (Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA) ,  BILODEAU S M (Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA) ,  ROEDER J F (Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA) ,  KIRLIN P S (Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35  号： 4B  ページ： 2520-2525  発行年： 1996年04月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多くの薄膜堆積方法についての報告の中からBa<sub>1-x...

シソーラス用語： チタン酸塩 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

引用文献 (26件)：

• KIRLIN, P. Integrated Ferroelectr. 1995, 7, 307
• van BUSKIRK, P. C. Mater.Res.Soc.Symp.Proc. 1993, 310, 345
• de KEIJSER, M. Integrated Ferroelectr. 1993, 3, 131
• de KEIJSER, M. Mater.Res.Symp.Proc. 1993, 310, 223
• AMI, T. Mater.Res.Symp.Proc. 1995, 415, 123

タイトルに関連する用語 (4件)： 液体源 ,  化学蒸着 ,  金属酸化物薄膜 ,  有機金属化学蒸着