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J-GLOBAL ID：201002263934021251   整理番号：10A0633704

Ar-F PLD法によるFeSe_1-XS_X薄膜の作製

著者 (21件)： 藤井由隆 (九大 大学院) ,  藤井由隆 (JST-TRIP) ,  寺西亮 (九大 大学院) ,  寺西亮 (JST-TRIP) ,  宗藤伸治 (九大 大学院) ,  森信幸 (九大 大学院) ,  森信幸 (JST-TRIP) ,  向田昌志 (九大 大学院) ,  向田昌志 (JST-TRIP) ,  井上昌睦 (九大 大学院) ,  井上昌睦 (JST-TRIP) ,  木須隆暢 (九大 大学院) ,  木須隆暢 (JST-TRIP) ,  松本要 (九州工大 大学院) ,  松本要 (JST-TRIP) ,  吉田隆 (名大 院) ,  吉田隆 (JST-TRIP) ,  一野祐亮 (名大 院 エコトピア研) ,  一野祐亮 (JST-TRIP) ,  一瀬中 (電力中研) ,  一瀬中 (JST-TRIP)
資料名： 日本金属学会九州支部・日本鉄鋼協会九州支部・軽金属学会九州支部合同学術講演大会講演概要集  (日本金属学会九州支部・日本鉄鋼協会九州支部・軽金属学会九州支部合同学術講演会プログラム講演概要集)
巻： 2010  ページ： P63  発行年： 2010年 
JST資料番号： L2230A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： レーザ蒸着 ,  エキシマレーザ ,  *鉄化合物 ,  *セレン化物 ,  置換 ,  硫黄 ,  ターゲット ,  X線回折 ,  磁化率 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  ArFレーザ
準シソーラス用語： ArFエキシマレーザ

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ar ,  PLD法 ,  薄膜 ,  作製