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J-GLOBAL ID：201202202173381998   整理番号：12A0544160

測る-社会・産業分野に貢献する計測技術 1Xnm半導体プロセスの工業計測-新型測長SEM「CG5000」と計測アプリケーション-

著者 (6件)： 小室修 (日立ハイテクノロジーズ 評価システム設計開発本部) ,  川野源 (日立ハイテクノロジーズ 研究開発本部) ,  山口敦子 (日立) ,  宮本敦 (日立) ,  豊田康隆 (日立) ,  高見尚 (日立ハイテクノロジーズ 評価システム設計開発本部)
資料名： 日立評論
巻： 94  号： 2  ページ： 192-197  発行年： 2012年02月01日 
JST資料番号： F0062A  ISSN： 0367-5874  CODEN： HITAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 測長SEMは,IEEEマイルストーンに認定された「電界放出形電子顕微鏡の実用化」の一製品として開発され,1984年に製品化された。これまで,日立グループはユーザーの「測る」ニーズを満たす計測システムの提供をコンセプトに,世界中のユーザーやコンソーシアムの研究機関,装置メーカーと連携して,装置の性能向上と同時に計測ソリューションの開発を進めてきた。今回開発した1Xnmの最先端微細プロセスに対応した新型の測長装置「CG5000」は,電子光学系をコア技術としてプラットフォームを一新し,高精度化と高生産性を実現した。また,1Xnm世代で要求される計測技術として,露光装置を管理する計測技術やダブルパターニングの計測技術,輪郭線応用計測に関する計測ソリューション技術を開発した。(著者抄録)

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  長さ測定 ,  *半導体プロセス ,  電子光学 ,  測定精度 ,  ナノメータ加工
準シソーラス用語： *測長SEM ,  露光装置

分類 (1件)： 顕微鏡法  (BK01040E)

引用文献 (11件)：

• 1) 大林:イノベーションを支える電子顕微鏡の進化,日立評論, 91, 11,806~811 (2009.11)
• 2) 高性能電子顕微鏡の開発, 日立評論, 64, 1, 69(19821)
• 3) S-6000形(半導体測長専用)走査電子顕微鏡の開発, 日立評論, 67, 1, 77 (1985.1)
• 4) 池上, 外:半導体用微小寸法計測システムの発展と今後の展望, 日立評論, 93, 2, 183~187 (2011.2)
• 5) 山口, 外:65nmプロセスノードに対応するCD-SEM技術, 日立評論, 86, 7, 471~476 (2004.7)

タイトルに関連する用語 (7件)： 社会 ,  産業 ,  計測技術 ,  半導体プロセス ,  測長SEM ,  計測 ,  アプリケーション