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J-GLOBAL ID：201702236040187016   整理番号：17A0318083

LOR犠牲層を用いたモノリシックSU-8構造の相互接続されたマルチレベルチャネルの作製【Powered by NICT】

Fabrication of interconnected multilevel channels in a monolithic SU-8 structure using a LOR sacrificial layer

著者 (8件)： Chiriaco Maria Serena (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Bianco Monica (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Amato Francesco (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Primiceri Elisabetta (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Ferrara Francesco (ST Microelectronics, via per Arnesano, 73100 Lecce, Italy) ,  Arima Valentina (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Maruccio Giuseppe (CNR NANOTEC, Institute of Nanotechnology c/o Campus Ecotekne, University of Salento, via Monteroni, 73100 Lecce, Italy) ,  Maruccio Giuseppe (Dipartimento Matematica e Fisica E. De Giorgi, University of Salento, Lecce, Italy)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 164  ページ： 30-35  発行年： 2016年 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい微細加工技術の開発は,ラボオンチップ中の生体適合性,柔軟性と低コストの特徴を持つ三次元手法に対する増加する需要のためにますます関心を集めている。SU-8のような有機高分子の成形を含むフォトリソグラフィー技術はデバイスプロトタイピングにおける短い作製時間と単純性を可能にした。本論文では,革新的なリソグラフィーアプローチの枠内での組み合わせにおけるLORとSU-8レジストを用いた。自立構造の生産のための典型的な犠牲層としてではなく,三次元固体レジストSU-8モノリス中のパターン化し,埋め込むことができるとして用いたLORレジスト。溶解後,最終マルチレベル構造を提供するために空洞を形成することができる。最終構造を得て,LORの使用に関連した問題を克服するために必要な最適化プロセスの詳細な記述を報告した。最後に,生物学的応用のための有用な,作業相互接続マルチレベルマイクロチャネルのネットワークは新しい,安価で時間のかからない方法によって実現した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 三次元 ,  生体適合性 ,  最適化 ,  *相互接続 ,  一体構造 ,  パターン形成 ,  柔軟性 ,  フォトリソグラフィー ,  レジスト
準シソーラス用語： 低価格 ,  *マルチレベル ,  モノリス ,  ラボオンチップ ,  *SU-8 ,  *犠牲層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 微細加工技術 ,  マルチレベルマイクロチャネル ,  LOR derivedチャネル ,  SU-8モノリシック構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 犠牲層 ,  SU-8 ,  相互接続 ,  マルチレベル ,  チャネル ,  作製