文献

J-GLOBAL ID：201702237439832330   整理番号：17A0402506

先進相互接続のための多層グラフェンの評価【Powered by NICT】

Evaluation of multilayer graphene for advanced interconnects

著者 (16件)： Politou Maria (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  Politou Maria (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Wu Xiangyu (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  Wu Xiangyu (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Asselberghs Inge (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Contino Antonino (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  Contino Antonino (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Soree Bart (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  Soree Bart (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Radu Iuliana (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Huyghebaert Cedric (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Tokei Zsolt (IMEC, Leuven, Belgium) ,  De Gendt Stefan (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  De Gendt Stefan (IMEC, Leuven, Belgium) ,  Heyns Marc (KU Leuven, Leuven, Belgium) ,  Heyns Marc (IMEC, Leuven, Belgium)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 167  ページ： 1-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,将来の相互接続応用に向けて潜在的Cu置換としての多層グラフェンリボンを特性化する電気的にした。単層リボンとの性能を比較し,シート抵抗,移動度と平均自由行程について報告した。さらに,頂点と辺配置におけるPd接点の接触特性を特性化した。著者らの結果は,多層リボンと低いシート抵抗のための大電流容量を示した。多層リボンへのエッジ接触は接触抵抗の減少のための有望なアプローチである。シート抵抗Rs~280と接触抵抗Rc*W325Ωμmの値は多層試料とエッジ接触を測定した。計算リボン平均自由行程が単層グラフェン(MFP_SLG~60nm)の高いが,多層試料(MFP_FLG~30nm)のためのCuのMFPと同程度であった。インターカレーションは,多層線特性の改善のための潜在的アプローチである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： インターカレーション ,  移動度 ,  接触抵抗 ,  キャラクタリゼーション ,  *グラフェン ,  平均自由行程 ,  単一層 ,  *多層 ,  *相互接続 ,  銅 ,  シート抵抗 ,  電流容量
準シソーラス用語： 単層グラフェン ,  *多層グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： 相互接続 ,  多層グラフェン ,  数層グラフェン ,  接触抵抗 ,  トップ接触 ,  エッジ接触 ,  シート抵抗 ,  平均自由行路

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  半導体-金属接触  (BM03084G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 相互接続 ,  多層グラフェン ,  評価