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J-GLOBAL ID：201702242954624557   整理番号：17A0142364

にあるナノ凸形アレイ構造を持つ製造ポリイミド膜のためのシリコン金型ベース製作法【Powered by NICT】

Silicon-mold-based fabrication method for manufacturing polyimide membrane with nano-protuberance array structure

著者 (5件)： Yang Zheng (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing 400714, China) ,  Wu Peng (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing 400714, China) ,  Rao Xianhua (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing 400714, China) ,  Yin Shaoyun (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing 400714, China) ,  Du Chunlei (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing 400714, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： 3M-NANO  ページ： 217-220  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ突起アレイ構造をもつ製造反射防止PI膜のシリコンモールドに基づく作製方法を提案した。この方法では,ナノホールアレイを用いたシリコンモールドを最初にPS球自己集合,金属被覆と反応性イオンエッチングを用いて作製した。PI前駆体溶液をシリコンモールド上にスピンコートした。勾配温度上昇とイミド化に続いて,ナノ突起アレイ構造をもつPI膜が得られた。SEMとA FMで試験したところ,提案した方法が高い複製精度を有していた。作製した鋳型と膜は,大面積規則と良好な均一性を示した。反射試験結果は,提案した方法がPI膜の反射を減少させる効率的に使用できることを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 自己集合 ,  昇温 ,  *ケイ素 ,  メタライゼーション ,  イミド化 ,  RIE【エッチング】 ,  *凸形 ,  複製 ,  前駆体 ,  *ポリイミド
準シソーラス用語： 大面積 ,  ナノホールアレイ ,  反射防止 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 凸形 ,  アレイ ,  ポリイミド膜 ,  シリコン ,  金型 ,  製作法