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J-GLOBAL ID：201702253033752211   整理番号：17A0403978

低圧化学蒸着により合成したZrC/SiC複合皮膜の成長に及ぼす蒸着時間の影響【Powered by NICT】

Effect of deposition time on growth of ZrC/SiC composite coating synthesized by low pressure chemical vapor deposition

著者 (8件)： Wang Fangwei (Department of Materials Science, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Wang Fangwei (Department of Chemistry, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Chen Lei (Department of Materials Science, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Wang Yujin (Department of Materials Science, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Yao Mianyi (Department of Materials Science, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Hao Sue (Department of Chemistry, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Ouyang Jiahu (Department of Materials Science, Harbin Institute of Technology, Harbin150001, China) ,  Huang Zhenkun (School of Materials Science and Engineering, University of Michigan, USA)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 2  ページ： 2853-2858  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,低圧化学蒸着(LPCVD)によりZrCl_4CH_4H_2Ar系からシリコン基板上にZrC/SiC複合材料コーティングを合成した。ZrC/SiC複合被覆,相組成,微細構造と表面粗さの成長に及ぼす堆積時間の顕著な影響を調べた。堆積時間が1hに達したときのみSiC相を堆積した。堆積時間の増加に伴い,Si元素の原子百分率は減少し,Zr元素は有意に増加し,同時に,.~2炭素の秩序構造は改善した。均一でコンパクトなZrC/SiC複合材料コーティングは4hの堆積時間で1400°Cで調製した。種々の蒸着時間でZrC/SiC複合被覆の成長機構を詳細に述べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 微細構造 ,  *炭化ケイ素 ,  複合材料 ,  *ケイ素 ,  皮膜 ,  *化学蒸着 ,  被覆 ,  *ジルコニウム ,  *蒸着 ,  相組成 ,  *LPCVD
準シソーラス用語： 成長メカニズム ,  秩序構造 ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 化学蒸着 ,  複合材被覆 ,  Morphology ,  機構

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低圧化学蒸着 ,  SiC ,  複合皮膜 ,  成長 ,  蒸着