Tao Ming について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Wang Maojun について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Liu Shaofei について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Xie Bing について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Wen Cheng P. について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Wang Jinyan について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Hao Yilong について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Wu Wengang について
Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China について
Shen Bo について
Department of Physics, Peking University, Beijing, China について
IEEE Transactions on Electron Devices について
ウエハ【IC】 について
アルミニウム化合物 について
窒化ガリウム について
HEMT について
バッファ層 について
時間依存性 について
MIS構造 について
漏れ電流 について
劣化 について
高電圧 について
耐圧性 について
ドレイン【半導体】 について
バイアス について
電圧変動 について
応力測定 について
ドナー について
深い準位 について
イオン化 について
炭素 について
ドーピング について
絶縁破壊 について
電流電圧特性 について
ケイ素基板 について
AlGaN/GaN について
オフ状態 について
電圧ストレス について
ゲートバイアス について
閾値電圧シフト について
トランジスタ について
シリコン について
AlGaN について
GaN について
高電子移動度トランジスター について
バッファー について
誘導 について
時間依存性 について
OFF状態 について
漏えい について