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J-GLOBAL ID:201702262791097343   整理番号:17A0402518

化学蒸着により堆積したSiOCH薄膜:低κ化学的および生化学的センサまで【Powered by NICT】

SiOCH thin films deposited by chemical vapor deposition: From low-κ to chemical and biochemical sensors
著者 (12件):
資料名:
巻: 167  ページ: 69-79  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0406B  ISSN: 0167-9317  CODEN: MIENEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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化学蒸着プロセスによる多孔質SiOCHの実現において著しい進展があった。本論文では,有機ケイ酸塩薄膜の多孔性を導入するために開発された種々のアプローチは,CVDによる高多孔質SiOCHを得るために,既存のプロセスを単純化する新しい概念に特に焦点を当てて記述した。論文の第二部では,ナノテクノロジーにおけるこれらの多孔質SiOCH薄膜の応用に特化した:低κ誘電体からの化学的及び生化学的センサである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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