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J-GLOBAL ID：201702266192138303   整理番号：17A0825547

ZnO上のZnInONのスパッタ蒸着中の酸素と窒素原子の密度と表面反応確率【Powered by NICT】

Densities and Surface Reaction Probabilities of Oxygen and Nitrogen Atoms During Sputter Deposition of ZnInON on ZnO

著者 (9件)： Matsushima Koichi (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Ide Tomoaki (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Takeda Keigo (Department of Quantum Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan) ,  Hori Masaru (Department of Quantum Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan) ,  Yamashita Daisuke (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Seo Hyunwoong (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Koga Kazunori (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Shiratani Masaharu (Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Itagaki Naho (Kyushu University, Fukuoka, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 45  号： 2  ページ： 323-327  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZnOテンプレート上にZnInON膜のスパッタ蒸着中のOとN原子の密度と表面反応確率,真空紫外吸収分光法による測定を報告した。O_2ガス流量によらずO密度は4.5×10~11cm~ 3のほぼ一定の一方,N密度は0.6sccmのO_2ガスsccmに対して2.7×10~11cm~ 3から急激に増加する7.7×10~11cm~ 3と5sccm10~11cm~ 3を徐々に増加した。ZnInON上のO原子の表面反応確率β_OはO_2ガス流速を0から5sccmに0.022から0.404に大きく増加し,一方ZnInONへのN原子のβ_Nは0.018から0.006にわずかに減少した。[Zn]/([Zn] + [In])=[O]/([O] + [N])=94%のZnInON膜の化学量論的化学組成比はO原子のβ_O=0.404で得られた。化学量論組成ZnInON膜は,ZnOテンプレート上でコヒーレントに成長し,一方,非化学量論的膜はそうではなかった。化学量論的化学組成をZnInON膜のコヒーレント成長への鍵である。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 流速 ,  *酸化亜鉛 ,  コヒーレンス ,  *反応確率 ,  化学量論 ,  *スパッタ蒸着 ,  非化学量論 ,  化学組成 ,  *酸素
準シソーラス用語： 化学量論組成 ,  ガス流量 ,  *窒素原子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (6件)： ZnO ,  スパッタ蒸着 ,  酸素 ,  窒素原子 ,  密度 ,  反応確率