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J-GLOBAL ID:201702272355970490   整理番号:17A0323173

徐冷パターンを有する電子ビーム融解によるmc-SiにおけるSiC堆積作用と炭素移動【Powered by NICT】

SiC sedimentation and carbon migration in mc-Si by election beam melting with slow cooling pattern
著者 (12件):
資料名:
巻: 53  ページ: 1-7  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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光起電力産業の発展は大量多結晶シリコンのを必要とする。太陽電池に大きな悪影響を起こす可能性があるシリコン中の炭素とSiCは,限られた量の中に含まれる必要がある。徐冷パターンと電子ビーム融解(EBM)によるシリコン中の炭素とその析出SiCの挙動を本研究で調べた。SiCはEBM後のインゴット底部にsedimentateことが分かった。Si_3N_4の存在は連続的に核生成するSiCの不均一核形成剤であることができ,それらの両方は,インゴット底部に析出した。遅い凝固条件,温度勾配と融液対流の包括的効果は,SiCの沈降を引き起こす。も酸素が溶解した炭素の移動に重要な役割を果たすことが分かった。酸素はシリコン融液からEBM中の真空環境にできるので,炭素-酸素複合体の形成は,インゴット頂部に移動する傾向がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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固体デバイス材料  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  半導体の結晶成長 

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