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J-GLOBAL ID：201702272964580437   整理番号：17A0402540

電子ビーム生成プラズマ窒化けい素の特性とエッチング【Powered by NICT】

Electron beam generated plasmas: Characteristics and etching of silicon nitride

著者 (10件)： Walton S.G. (Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Boris D.R. (Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Hernandez S.C. (Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Lock E.H. (Materials Science and Technology Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Petrova Tz. B. (Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Petrov G.M. (Plasma Physics Division, Naval Research Laboratory, 4555 Overlook Ave. SW, Washington, DC 20375-5346, USA) ,  Jagtiani A.V. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, New York 10598, USA) ,  Engelmann S.U. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, New York 10598, USA) ,  Miyazoe H. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, New York 10598, USA) ,  Joseph E.A. (IBM T.J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 168  ページ： 89-96  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 海軍研究所(NRL)は電子ビームにより発生したプラズマに基づく処理システムを開発し,電場(DC,RF,マイクロ波など)により作製した従来の放電とは異なり,イオン化は高エネルギー(keV)電子ビームにより駆動される。得られたプラズマは大きな電子密度(10~10 10~11 cm~ 3)と低電子温度(0.3 1.0eV)によって特性化した。イオンの大きなフラックスは数eVの運動エネルギー,低損傷と原子層精度を必要とする処理応用に魅力的であることができるという特徴をもって基板表面に供給することができた。本研究では,アルゴンと六ふっ化硫黄(SF_6)の混合物で生成したこれらのプラズマの顕著な特徴と窒化けい素エッチングにおけるそれらの使用を述べ,原子層処理に関連した開発プロセスパラメータに特に注目した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電場 ,  アルゴン ,  電子密度 ,  *窒化ケイ素 ,  運動エネルギー ,  マイクロ波 ,  フッ化硫黄 ,  電子温度 ,  *エッチング ,  *電子ビーム ,  プロセスパラメータ ,  キャラクタリゼーション ,  *プラズマ
準シソーラス用語： 原子層 ,  高エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： プラズマ ,  電子ビーム ,  エッチング ,  窒化けい素 ,  六ふっ化硫黄

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビーム ,  プラズマ ,  窒化けい素 ,  エッチング