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J-GLOBAL ID：201702283160770607   整理番号：17A0302098

二重周波数容量結合プラズマにおける4次高調波による電気的非対称効果の一次元混成シミュレーション【Powered by NICT】

One-dimensional hybrid simulation of the electrical asymmetry effect caused by the fourth-order harmonic in dual-frequency capacitively coupled plasma

著者 (6件)： Wang Shuai (Department of Physics, College of Sciences, Northeastern University) ,  Long Haifeng (Department of Physics, College of Sciences, Northeastern University) ,  Bi Zhenhua (School of Physics and Materials Engineering, Dalian Nationalities University) ,  Jiang Wei (School of Physics, Huazhong University of Science and Technology) ,  Xu Xiang (School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology) ,  Wang Younian (School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology)
資料名： Chinese Physics B  (Chinese Physics B)
巻： 25  号： 11  ページ： 115202_01-115202_06  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1539A  ISSN： 1674-1056  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一次元ハイブリッドモデルは,二重周波数容量結合Arプラズマにおける四次高調波に起因する電気的非対称効果(EAE)を研究するために開発した。四次周波数による自己バイアス電圧は位相角で周期的に変化し,位相角と自己バイアスのサイクルは二二次の場合のそれの半分である。イオン密度プロファイルに関する基礎とその四次周波数間の位相角とイオンエネルギー分布(IED)の影響を調べた。イオン密度プロファイルとIEDは位相角,主放電パラメータを変えることなくシース特性を調整する便利な方法を提供するによって制御することができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ハイブリッドシミュレーション ,  *高調波 ,  *周波数 ,  *非対称性 ,  イオン密度 ,  アルゴン ,  *一次元 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： イオンエネルギー分布 ,  自己バイアス ,  位相角 ,  バイアス電圧 ,  *容量結合 ,  *容量結合プラズマ ,  *二重周波数 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 容量結合プラズマ ,  電気的非対称性効果 ,  ハイブリッドモデル ,  イオンエネルギー分布

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 二重周波数 ,  容量結合プラズマ ,  高調波 ,  非対称 ,  混成シミュレーション