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J-GLOBAL ID：201702284962687153   整理番号：17A0756536

ウエハ滞留時間とメイクスパンの2目的最小化のための双腕クラスタツールの非周期的スケジューリング【Powered by NICT】

Non-cyclic scheduling of dual-armed cluster tools for bi-objective minimization of wafer residence time and makespan

著者 (2件)： Sakai Masaru (Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikaneyama-cho, Toyonaka city, 560-8531, Japan) ,  Nishi Tatsushi (Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikaneyama-cho, Toyonaka city, 560-8531, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： IEEM  ページ： 1016-1020  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体製造に広く使用されている二重アームクラスタツール。システムは,それらの間のウエハを移送するためのいくつかのロードロックモジュール,プロセスモジュール,とマテリアルハンドリングロボットから構成されている。従来研究の多くは,メークスパンの最小化のためのスケジューリングクラスタツールに焦点を当てた。ウエハ表面の品質の劣化を防ぐために,プロセスモジュールにおける滞留時間を最小化するためにも重要である。クラスタツールはウエハ製造システムのための過剰な損失につながる可能性があるデッドロック状況を回避しなければならない。本論文では,デッドロック回避戦略のための効率的なスケジューリング法とメイクスパンとウエハ滞留時間の最小化の二目的を提案した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *スケジューリング ,  デッドロック ,  *滞留時間 ,  品質
準シソーラス用語： デッドロック回避 ,  ウエハー製造 ,  半導体製造 ,  *クラスタツール ,  *メイクスパン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  工程管理  (KB03030P)

タイトルに関連する用語 (7件)： ウエハ ,  滞留時間 ,  メイクスパン ,  最小化 ,  腕 ,  クラスタツール ,  スケジューリング