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J-GLOBAL ID：201702286242948900   整理番号：17A0204250

プラズマ曝露により形成された薄い遷移膜はゲルマニウム表面親水性に寄与する【Powered by NICT】

A thin transition film formed by plasma exposure contributes to the germanium surface hydrophilicity

著者 (8件)： Lai Shumei (Department of Physics, Xiamen University) ,  Mao Danfeng (Department of Physics, Xiamen University) ,  Huang Zhiwei (Department of Physics, Xiamen University) ,  Xu Yihong (Department of Physics, Xiamen University) ,  Chen Songyan (Department of Physics, Xiamen University) ,  Li Cheng (Department of Physics, Xiamen University) ,  Huang Wei (Department of Physics, Xiamen University) ,  Tang Dingliang (College of Chemistry and Chemical Engineering, Xiamen University)
資料名： Journal of Semiconductors  (Journal of Semiconductors)
巻： 37  号： 9  ページ： 093004-1-093004-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2377A  ISSN： 1674-4926  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ処理と10%NH_4OH溶液洗浄は,ゲルマニウム(Ge)表面上で実行した。O_2とArプラズマ曝露後のGe表面親水性がN_2プラズマ曝露を受けた試料のそれよりも強いことが分かった。O_2またはArプラズマによるGe上に形成された薄いGeO_x膜はN_2プラズマ処理により形成したGeO_xN_yよりもより親水性のためである。高親水性(3°より小さい接触角)を持つ平坦(RMS<0.5 nm)Ge表面はO_2プラズマ処理により達成され,Ge低温直接ウエハボンディングにおけるその有望な応用を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： アルゴン ,  *ゲルマニウム ,  *プラズマ ,  *親水性 ,  接触角 ,  プラズマ処理 ,  低温 ,  *プラズマ曝露
準シソーラス用語： ウエハボンディング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 表面親水性 ,  接触角 ,  プラズマ ,  GeO_xN_y ,  GeO_x

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ曝露 ,  遷移 ,  ゲルマニウム ,  親水性