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J-GLOBAL ID：201002204116454391   整理番号：10A0586810

超伝導磁気浮上を適用したフォトマスク洗浄プロセス用非接触スピン装置の研究開発

著者 (8件)： 福井聡 (新潟大) ,  風間亨介 (新潟大) ,  小川純 (新潟大) ,  岡徹雄 (新潟大) ,  佐藤孝雄 (新潟大) ,  反町聡 (MTC) ,  斉藤君世 (MTC) ,  宮崎紳介 (MTC)
資料名： 低温工学・超電導学会講演概要集  (低温工学・超電導学会秋季講演概要集)
巻： 82nd  ページ： 168  発行年： 2010年05月12日 
JST資料番号： G0564B  ISSN： 0919-5998  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,半導体フォトマスク製造プロセスに用いるスピン処理装置にHTSバルクを用いた磁気浮上を適用し非接触化することにより,従来の機械軸受からの微粒子ダストの発生を抑えて,よりクリーンなマスク製造環境を実現することを目的とている。我々は,JST委託開発の支援を受けて,本装置の実用化に向けた研究開発を行っている。本報告では,実用化の第一ターゲットとしてのフォトマスク洗浄プロセスへの適用性を検証するため,プロジェクトで開発している試験装置の詳細,及びそれを用いた試験に関する速報を行う。

シソーラス用語： *磁気浮上 ,  *フォトマスク ,  洗浄 ,  *スピンコーティング ,  *軸受 ,  *高温超伝導体 ,  カスプ磁場 ,  永久磁石 ,  変位
準シソーラス用語： *バルク超伝導体 ,  非接触

分類 (2件)： 軸受  (QB01020W) ,  その他の超伝導応用装置  (BM04044V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 伝導 ,  磁気浮上 ,  フォトマスク ,  洗浄プロセス ,  非接触 ,  スピン ,  研究 ,  開発