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J-GLOBAL ID：201002246265427539   整理番号：10A0332792

原料PDMSのアルコキシラン末端変性処理による有機・無機複合膜の低分子発生抑制

著者 (1件)： 青木裕介 (三重大)
資料名： 電気学会全国大会講演論文集  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan)
巻： 2010  号： 2  ページ： 100  発行年： 2010年03月05日 
JST資料番号： S0653A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  変性 ,  無機材料 ,  有機材料 ,  *複合膜 ,  末端基 ,  耐熱性 ,  *絶縁材料 ,  *絶縁体
準シソーラス用語： *PDMS【重合体】

分類 (2件)： 電気絶縁材料  (YH06020F) ,  無機重合体  (YH07140R)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原料 ,  PDMS ,  変性 ,  複合膜 ,  低分子 ,  発生抑制