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J-GLOBAL ID：201102200574965356   整理番号：11A0990159

和周波発生分光測定に基づく(ポリメタクリル酸メチル/水)界面のナノ構造:スピンコート膜と濃厚ブラシの比較

著者 (5件)： 甲斐直樹 (九大 大学院) ,  藤井義久 (九大 大学院) ,  平井智康 (九大 大学院) ,  辻井敬亘 (京大 化研) ,  田中敬二 (九大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 60  号： 1 Disk1  ページ： ROMBUNNO.2C18  発行年： 2011年05月10日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸メチル ,  *水 ,  *固液界面 ,  界面 ,  表面構造 ,  *ナノ構造 ,  構造解析 ,  高分子膜 ,  スピンコーティング ,  密度 ,  高分子ブラシ ,  スペクトロスコピー ,  界面構造 ,  高密度 ,  和周波発生分光法 ,  構造
準シソーラス用語： SFG分光法

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の構造決定法  (BK01070L) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

タイトルに関連する用語 (8件)： 和周波発生 ,  分光測定 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  水 ,  界面 ,  ナノ構造 ,  スピンコート ,  ブラシ