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J-GLOBAL ID：201102204981635749   整理番号：11A1560002

シリカ膜の水素/酸素透過分離特性

著者 (6件)： 白井聡太 (山口大 大学院) ,  田中一宏 (山口大 大学院) ,  喜多英敏 (山口大 大学院) ,  野村幹弘 (芝浦工大) ,  酒多喜久 (山口大 大学院) ,  今村速夫 (山口大 大学院)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 43rd  ページ： ROMBUNNO.P2C27  発行年： 2011年08月14日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *選択透過膜 ,  *膜透過 ,  *膜分離 ,  *ガス分離 ,  *水素 ,  *酸素 ,  膜反応器 ,  *選択性 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (4件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  各種物理的手法  (CC01030W) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (1件)： テトラメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカ膜 ,  水素 ,  酸素 ,  透過 ,  分離特性