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J-GLOBAL ID:201102224347396619   整理番号:11A0726979

マイクロサイズの電子線筺筒の開発とその応用

Development of Miniaturized Electron Optical Column in micro scale and its Application to Mask-less Lithography
著者 (11件):
資料名:
巻: 110  号: 423(ED2010 192-206)  ページ: 25-29  発行年: 2011年02月16日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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次々世代の半導体パターニング技術として開発されているマスクレスリソグラフィーへの応用を目的にマイクロサイズ大で構築されるマイクロカラムの提案・開発を推進している。従来型の5段型ゲートFEA構造によりクロスオーバー形成に初めて成功して以来,次々世代リソグラフィーでの要求されるビーム径仕様を満足する電子光学系設計,ウェネルト等の要素技術,更にそれらを構築する為のプロセス開発を既に終了している。本報告においてこれまでの我々研究グループの取り組みとその成果について報告する。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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電子ビーム・イオンビームの応用 
タイトルに関連する用語 (4件):
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