マイクロガス捕集器の製造方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：佐々木功 , 川村恭子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-045742
公開番号（公開出願番号）：特開2004-257748
特許番号：特許第4397604号
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガス吸収液が流れるマイクロチャネルを表面側に形成したブロックと、該ブロックの表面側に取り付けたガス透過膜とからなるマイクロガス捕集器の製造方法において、矩形状のポリジメチルシロキサンで前記ブロックを形成し、表面をフッ素化シランで上面処理した平滑な基板上でスピンコーティング法により、厚さ30μm以下のポリジメチルシロキサン薄膜を形成し、前記ポリジメチルシロキサン薄膜を前記ブロックの前記表面側に熱接着した後に基板上から剥離することによって、前記表面側にポリジメチルシロキサンからなるガス透過膜を取り付けることを特徴とするマイクロガス捕集器の製造方法。

IPC (2件)：