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J-GLOBAL ID：201202267765139973   整理番号：12A0650757

α-プロパルギルアミノ酸を不斉源とする新規置換ポリアセチレンの合成と二次構造の刺激応答性

著者 (3件)： 曽川洋光 ,  塩月雅士 ,  三田文雄
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 3  ページ： 1015  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： α-プロパルギルアミノ酸誘導体のロジウム触媒重合による新規光学活性置換ポリアセチレンの合成,形成する高次構造の解析,およびカチオン添加,加熱などの外部刺激に伴う高次構造の変化について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *不斉合成 ,  *ポリアセチレン類 ,  機能性高分子 ,  *ロジウム触媒 ,  重合触媒 ,  高次構造 ,  *光学活性高分子 ,  *二次構造 ,  ヘリックス構造 ,  *アミノ酸 ,  不飽和脂肪酸 ,  アセチレン化合物 ,  刺激応答性高分子

分類 (2件)： アミノ酸  (CF10070V) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

物質索引 (1件)： プロパルギル酸

タイトルに関連する用語 (6件)： プロパルギル ,  アミノ酸 ,  置換 ,  ポリアセチレン ,  二次構造 ,  刺激応答性