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J-GLOBAL ID：201302230204502862   整理番号：13A1799655

高透過性silicalite-1膜の調製法の検討

著者 (4件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  金子拓矢 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 45th  ページ： ROMBUNNO.P117  発行年： 2013年08月16日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 膜透過 ,  透過流束 ,  シリカライト ,  *無機分離膜 ,  調製 ,  *製膜 ,  異性体 ,  *パーベーパレーション ,  選択性 ,  アルカン ,  *シリカライト-1 ,  *膜

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

物質索引 (1件)： ヘキサン

タイトルに関連する用語 (2件)： 高透過性 ,  調製法