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J-GLOBAL ID：201402224821271603   整理番号：14A0229127

種々のガス雰囲気におけるC:H:Siフィルムのガス表面界面トライボ化学と超潤滑メカニズム

Gas-surface interfacial tribochemistry and superlubric mechanism of a-C:H:Si films in different gaseous atmospheres

著者 (5件)： CHEN Xinchun (Univ. Tokyo) ,  KAWAGUCHI Masahiro (Tokyo Metropolitan Industrial Technol. Res. Inst.) ,  CHOI Junho (Univ. Tokyo) ,  NOSAKA Masataka (Univ. Tokyo) ,  KATO Takahisa (Univ. Tokyo)
資料名： 日本トライボロジー学会トライボロジー会議予稿集(CD-ROM)
巻： 2013  号： 秋  ページ： ROMBUNNO.E48  発行年： 2013年10月10日 
JST資料番号： Y0047C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *摩擦化学反応 ,  潤滑 ,  機構 ,  気体 ,  膜 ,  炭素 ,  水素 ,  ケイ素
準シソーラス用語： トライボ化学 ,  *フィルム ,  *超潤滑 ,  雰囲気ガス

分類 (1件)： 潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (7件)： ガス雰囲気 ,  Si ,  フィルム ,  界面 ,  トライボ化学 ,  潤滑 ,  メカニズム