文献

J-GLOBAL ID：201502209439206140   整理番号：15A1054380

フッ素基含有ニトリルオキシドを用いる無触媒・無溶媒条件でのゴム及び表面の修飾

著者 (8件)： 曽川洋光 (東京工大 大学院) ,  文字山峻輔 (東京工大 大学院) ,  WANG Chen-Gang (東京工大 大学院) ,  小山靖人 (東京工大 大学院) ,  打田聖 (東京工大 大学院) ,  高田十志和 (東京工大 大学院) ,  神原將 (ダイキン工業) ,  野口剛 (ダイキン工業)
資料名： エラストマー討論会講演要旨集
巻： 26th  ページ： 3-4  発行年： 2014年12月04日 
JST資料番号： L1400A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アルキル化 ,  *ニトリルオキシド ,  *化学修飾 ,  *表面改質 ,  *天然ゴム ,  *ニトリルゴム ,  化学反応 ,  簡素化 ,  耐化学性 ,  摩擦 ,  撥水 ,  架橋【高分子】
準シソーラス用語： *NBR【ゴム】 ,  *ペルフルオロアルキル化 ,  簡便化 ,  耐化学薬品性 ,  低摩擦 ,  *表面修飾 ,  無触媒反応 ,  無溶媒反応

分類 (4件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  脂肪族ニトリル・イソシアニド  (CF03230L) ,  脂肪族ハロゲン化合物  (CF03050P) ,  ゴム  (YH07020M)

タイトルに関連する用語 (6件)： フッ素 ,  ニトリルオキシド ,  触媒 ,  無溶媒条件 ,  ゴム ,  修飾