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J-GLOBAL ID：201502212419414481   整理番号：15A0764372

α-アクリロイル化PMMA/HSiR₃開始系を用いたグループトランスファー重合によるジブロック共重合体の合成

著者 (7件)： 佐藤友亮 (北大 大学院) ,  伊藤貴弘 (北大 大学院) ,  高田健司 (北大 大学院) ,  CHEN Yougen (北大 フロンティア研セ) ,  佐藤敏文 (北大 大学院) ,  覚知豊次 (北大 大学院) ,  覚知豊次 (北大 フロンティア研セ)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 64  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2PB016  発行年： 2015年05月12日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学修飾 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *ポリアクリル酸ブチル ,  *ジブロック共重合体 ,  マクロ開始剤 ,  ヒドロシリル化 ,  *グループトランスファ重合 ,  分子量分布 ,  サイズ排除クロマトグラフィー ,  不飽和脂肪酸 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： *アクリロイル化

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子の分子量分布,分別  (CG02032X)

物質索引 (3件)： アクリル酸ブチル ,  ジメチルフェニルシラン ,  トリス(ペンタフルオロフェニル)ほう素

タイトルに関連する用語 (4件)： アクリロイル ,  PMMA ,  グループトランスファー重合 ,  ジブロック共重合体