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J-GLOBAL ID:201502219889775531   整理番号:15A0796088

シリコン表面におけるサブミクロンスケールの水滴成長の解析 環境制御型走査電子顕微鏡を用いた可視化計測

著者 (6件):
資料名:
巻: 52nd  ページ: ROMBUNNO.SP308  発行年: 2015年 
JST資料番号: F0872D  ISSN: 1346-1532  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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親水性表面である,ガラス・シリコン基板表面で発生するナノ-マイクロスケールでの水の凝縮を環境操作型走査電子顕微鏡を用いて水蒸気雰囲気下で観察した。撮影した連続画像から水滴の接触角,ベース直径,体積を評価し,ナノ-マイクロスケールでの水の凝縮機構を検討した。計測結果から,水滴の成長には2つのモードがあり,成長初期においてはベース直径を維持したまま接触角が増加し,成長後期では接触角をほぼ一定に保ちながらベース直径が増加することが確認された。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
膜流,液滴,気泡,キャビテーション  ,  相変化を伴う熱伝達 

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