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J-GLOBAL ID：201602208326491664   整理番号：16A0145890

分子配向の道しるべ 高分子結晶の配向制御

著者 (1件)： 松葉豪 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 高分子  (Polymers)
巻： 65  号： 2  ページ： 73-74  発行年： 2016年02月01日 
JST資料番号： F0168A  ISSN： 0454-1138  CODEN： KOBUA3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 剪断や温度変化による外部場の制御による高分子結晶の配向制御およびその観察法について解説した。流動場における結晶成長は,Penningsらによって「シシカバブ構造(Shish-kebab)」が発見されてから繊維中の結晶構造に焦点が当てられてきた。近年になり,シシカバブ構造を初めとする流動場の結晶成長の研究は,分析手段,特に放射光の技術進歩により進展し,放射光X線は従来のX線源と比較し,桁が違うほど強いため,その場X線散乱観察を可能にしている。その場観察として,他に流動中の結晶性高分子の高速度カメラによる偏光顕微鏡に結晶化の画像観察,また剪断印加中のWAXDやSAXSプロファイルについて紹介した。

シソーラス用語： *分子配向 ,  *高分子結晶 ,  ラメラ ,  高次構造 ,  微細構造 ,  *流れ場 ,  ポリエチレン ,  イソタクチックポリプロピレン ,  放射光施設 ,  シンクロトロン放射 ,  X線回折 ,  X線結晶学 ,  結晶構造 ,  結晶構造解析 ,  その場観察 ,  偏光顕微鏡 ,  剪断速度 ,  結晶化 ,  画像分析 ,  小角X線散乱 ,  X線散乱 ,  大角散乱 ,  高分子加工 ,  シシケバブ構造 ,  広角X線回折 ,  剪断速度依存性 ,  WAXS
準シソーラス用語： WAXD【回折】 ,  広角X線散乱 ,  流動場

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (5件)：

• A. J. Pennings and A. M. Kiel, Kollid Z. Z. Polym., 205, 160 (1965)
• T. Kanaya, et al., Macromolecules, 40, 3650 (2007)
• Y. Zhao, et al, Macromolecules, 46, 172 (2013)
• T. Kanaya, et al., Lect. Notes Phys., 714, 87 (2007)
• J. K. Kahk, et al., J. Appl. Cryst., 40, s48 (2007)

タイトルに関連する用語 (3件)： 分子配向 ,  高分子結晶 ,  配向制御