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J-GLOBAL ID：201602214840151708   整理番号：16A0265327

光反応性部位を有する安定ニトリル-N-オキシド反応剤用いる汎用高分子の無触媒架橋

著者 (3件)： チアウチャン スミトラー (東京工大) ,  曽川洋光 (東京工大) ,  高田十志和 (東京工大)
資料名： エラストマー討論会講演要旨集
巻： 27th  ページ： 60  発行年： 2015年12月03日 
JST資料番号： L1400A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 反応性 ,  酸化物 ,  第三アミン ,  酸素複素環化合物 ,  窒素複素環化合物 ,  環状付加 ,  化学合成 ,  芳香族ニトロ化合物 ,  *架橋【高分子】 ,  *光化学反応 ,  フェノール類 ,  無機酸エステル ,  有機シアン化合物
準シソーラス用語： Huisgen反応 ,  N-オキシド ,  クリック化学 ,  ニトロベンゼン類 ,  光反応性 ,  無触媒反応

分類 (1件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (2件)： イソシアン酸フェニル ,  N-フェニルカルバミド酸1-[4,5-ジヒドロ-5-(トリメチルシリルメチル)イソオキサゾール-3-イル]ナフタレン-2-イル

タイトルに関連する用語 (8件)： 光反応性 ,  ニトリル ,  N-オキシド ,  反応剤 ,  汎用 ,  高分子 ,  触媒 ,  架橋