文献

J-GLOBAL ID：201602218488135229   整理番号：16A0668150

若手研究者の挑戦 第11回 プラズモニックメソグレーティングの作製~波長より1桁小さなものづくり

著者 (2件)： 村井俊介 (京大) ,  村井俊介 (JST-さきがけ)
資料名： Optronics  (Optronics)
号： 416  ページ： 121-124  発行年： 2016年08月10日 
JST資料番号： Y0019A  ISSN： 0286-9659  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 筆者らは,ボトムアップ法由来のメソ多孔質材料であるメソポーラスシリカをテンプレートとして,メソスケールで金のグレーティング構造を得る手法を開発している。本稿では,高配向性メソポーラスシリカ薄膜に金を斜め蒸着することで,十ナノメートルスケールの金メソグレーティング構造を作製する研究に関する途中経過を報告した。まだデザインした構造を得るには至っておらず,構造制御には金属の薄膜上での拡散を抑えることが鍵となる。

シソーラス用語： 多孔性 ,  細孔構造 ,  *二酸化ケイ素 ,  *多孔質体 ,  *半導体薄膜 ,  *金 ,  *格子構造 ,  透過率 ,  角度依存性 ,  入射角 ,  電場 ,  間隙 ,  *ナノ構造 ,  中規模 ,  周期構造 ,  スピンコーティング ,  浸漬塗装 ,  薄膜成長 ,  *真空蒸着 ,  有限要素法 ,  シミュレーション ,  薄膜 ,  *ポラリトン
準シソーラス用語： メソポーラス ,  シリカ ,  *メソポーラスシリカ ,  入射角依存性 ,  光電場 ,  ナノギャップ ,  メゾスケール ,  ディップコーティング ,  *斜め蒸着 ,  配向膜 ,  *表面プラズモンポラリトン

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 研究 ,  作製 ,  波長 ,  桁 ,  ものづくり