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J-GLOBAL ID：201602246583730508   整理番号：16A1381766

HBr/N₂/フルオロカーボン系プラズマ中の混合層に対する温度の影響

Effect of temperature on mixing layer in HBr/N₂/fluorocarbon-based plasma

著者 (3件)： IWASE T. (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  YOKOGAWA K. (Hitachi High-Technol. Corp., Yamaguchi, JPN) ,  MORI M. (Hitachi High-Technol. Corp., Yamaguchi, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 38th  ページ： 197-198  発行年： 2016年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *臭化水素 ,  *窒素 ,  *脂肪族フッ素化合物 ,  *熱脱着スペクトル ,  *二次イオン質量分析 ,  *飛行時間法 ,  ウエハ【IC】 ,  *プラズマエッチング ,  ポリシリコン ,  二酸化ケイ素 ,  積層構造 ,  プラズマ ,  VHF【周波数】 ,  三次元 ,  NAND回路 ,  アスペクト比 ,  コンタクトホール ,  表面反応 ,  組成 ,  表面性状 ,  プラズマ処理 ,  加工速度 ,  臭化アンモニウム ,  *温度依存性
準シソーラス用語： *フルオロカーボン ,  TOF-SIMS ,  VHFプラズマ ,  高アスペクト比 ,  表面組成

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： HBr ,  N2 ,  フルオロカーボン系 ,  プラズマ ,  混合層