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J-GLOBAL ID：201602252888158008   整理番号：16A1201960

カリウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミドメルト中のネオジム錯体に対する拡散挙動と核形成メカニズムの電気化学分析

Electrochemical analysis of diffusion behavior and nucleation mechanism for neodymium complex in potassium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide melts

著者 (4件)： Nishimura Atsuki (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National University, 79-2 Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama 240-8501, Japan) ,  Matsumiya Masahiko (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National University, 79-2 Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama 240-8501, Japan) ,  Ota Hisashi (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National University, 79-2 Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama 240-8501, Japan) ,  Kawakami Satoshi (Environmental Protection Laboratory, DOWA ECO-SYSTEM Co., Ltd., 65-1 Omoriyama-shita, Hanaoka, Akita 017-0005, Japan)
資料名： Electrochemistry Communications  (Electrochemistry Communications)
巻： 65  ページ： 23-26  発行年： 2016年04月 
JST資料番号： W1133A  ISSN： 1388-2481  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で,カリウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド(KTFSA)メルト中でのNd(III)の電気化学挙動を調べた。おそらく+2.3Vあたりの最初の還元ピークがNd(II)の形成に相当すると推測される。電気化学分析は,+1.0VあたりのNd(III)の還元ピークが以下の反応;[Nd(III)+3e^-→Nd(0)]に基づくことを明らかにした。ボルタモグラムの半微分分析によって,KTFSAメルト中のNd(III)の拡散係数を483Kで4.39×10^-10m²s^-1であると推定した。さらに,473KでのクロノアンペロメトリからNd(0)の核形成および成長プロセスを評価した。結果は,誘導過電圧がボルタモグラムから見積ったNd(0)電着のピーク電位よりも負になると,Nd核の核形成メカニズムが瞬間的な核形成から進行性の核形成まで変わることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *メルト ,  *ネオジム錯体 ,  *拡散 ,  *核形成 ,  *機構 ,  *化学分析 ,  *電解分析 ,  電気化学的挙動 ,  ボルタンメトリー ,  拡散係数 ,  クロノアンペロメトリー ,  結晶成長 ,  過電圧 ,  電着
準シソーラス用語： *メカニズム ,  *電気化学分析 ,  ボルタモグラム ,  半微分ボルタンメトリー

著者キーワード (4件)： Bis(trifluoromethyl-sulfonyl)amide ,  Diffusion coefficient ,  Neodymium complex ,  Nucleation

分類 (4件)： 融解塩  (CB05050R) ,  第3族元素の錯体  (CE01060J) ,  電気化学反応  (CB07050F) ,  金属,合金の電気分析  (CC05040J)

物質索引 (1件)： [ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミノ]カリウム

タイトルに関連する用語 (8件)： カリウム ,  ビス ,  ネオジム錯体 ,  拡散 ,  挙動 ,  核形成 ,  メカニズム ,  電気化学分析